濕法研磨砂磨機(jī)指的是包括:立式砂磨機(jī)、臥式砂磨機(jī);統(tǒng)稱(chēng)砂磨機(jī),以下所講均為常規(guī)型的普通砂磨機(jī),高檔納米砂磨機(jī)不在此列,注意區(qū)分!
要獲得理想的研磨效果,不但要有高效的設(shè)備,還要有一定的技術(shù),在研磨時(shí)一般應(yīng)注意下列幾方面的問(wèn)題。
1.預(yù)分散
預(yù)分散是利用砂磨機(jī)進(jìn)行砂磨必不可少的一個(gè)過(guò)程,進(jìn)入砂磨機(jī)的物料必須均勻,如進(jìn)料不勻,不但容易造成管道堵塞,而且造成研磨開(kāi)始階段的磨效下降,因此必須進(jìn)行預(yù)分散。
2.研磨介質(zhì)
研磨介質(zhì)是與砂磨機(jī)配套的研磨材料,物料的粉碎靠它來(lái)實(shí)現(xiàn),因此它的理化指標(biāo)以及使用方法都直接影響砂磨機(jī)的使用效果,可以說(shuō)是決定研磨工藝是否成功的關(guān)鍵。一般選用的研磨介質(zhì)應(yīng)為球形、化學(xué)穩(wěn)定性好、中性、耐磨、耐撞擊,對(duì)熒光增白劑無(wú)不良影響??刹捎娩撝椤⒉Aе?、陶瓷粒、氧化鋯等,但使用較多的是玻璃珠。研磨介質(zhì)的相對(duì)密度因材料的不同而有很大的差異,在一般情況下,介質(zhì)的相對(duì)密度與漿料的粘度有關(guān),漿料懸浮體粘度通常在0.04-0.08Pa.s左右的介質(zhì)比較理想。常用,選用相對(duì)密度為2-3研磨介質(zhì)。
球形研磨介質(zhì)的效率較高,介質(zhì)的粒度分布越均勻,則成品的粒徑越均勻,研磨效率和成品質(zhì)量越高,而且研磨介質(zhì)不易破碎。
一般所用介質(zhì)粒徑大小據(jù)原漿料中固體顆粒大小和對(duì)成品粒徑大小的要求來(lái)決定,用于熒光增白劑研磨的介質(zhì)粒徑通常為0.6-1.5mm研磨介質(zhì)的填充率對(duì)研磨效率和介質(zhì)的消耗有直接的影響。
通常研磨介質(zhì)的填充率,對(duì)于敞開(kāi)型立式砂磨機(jī)為研磨容器有效容積的50%-60%;對(duì)于密閉立式或臥式砂磨機(jī)(包括雙冷、雙軸式)為研磨容器有效容(常取積的70%-90%)。
3.調(diào)節(jié)粘度
砂磨機(jī)內(nèi)物料粘度的大小影響研磨效率,粘度的控制必須隨著研磨介質(zhì)的大小而變化,研磨介質(zhì)的顆粒大則粘度可大一些,顆粒小則粘度要小一些,通常含固率控制在20%-30%以保持粘度在一定的范圍內(nèi)。
4.溫度的控制。
由于研磨過(guò)程中介質(zhì)的摩擦而產(chǎn)生熱量,使溫度升高,會(huì)造成粘度的降低,還可能引起晶型變化,變成不希望的晶型,從而影響產(chǎn)品的應(yīng)用性能,因此大都選用較低的研磨溫度。
5.流程的安排
由于熒光增白劑往往要經(jīng)過(guò)幾遍研磨才能達(dá)到使用要求,因此要對(duì)流程的安排認(rèn)真研究,以便獲得較狹窄的物料顆粒分布和較高的研磨效率。
6.PH值的控制
為了保持研磨過(guò)程中物料的穩(wěn)定性和顆粒的膠體分散性處于良好的狀態(tài),一般要采用酸或堿(如磷酸或氫氧化鈉等)來(lái)中和夾雜在結(jié)晶或聚集在顆粒中的堿或酸(這些堿或酸在研磨中會(huì)釋放出來(lái)),通??刂芇H=8-8.5。
7.解聚
分散型熒光增白劑在研磨時(shí)或其漿料在噴霧干燥前有一部分發(fā)生凝聚,為了使噴霧后的商品能得到較好的分散,熒光增白劑在干燥之前,可先采用均化器進(jìn)行解聚處理。